Deposizione plasmochimica a bassa temperatura di film sottili: il nome è difficile ma è la nuova frontiera della tecnologia per la realizzazione del fotovoltaico di “terza generazione”, le celle solari thin film con efficienza maggiore del 50%. L’innovatività del processo sta nella capacità di depositare a basse temperature e con struttura controllata strati ultra sottili di materiali semiconduttori su substrati plastici.
Questa tecnica è studiata già da qualche anno dal gruppo PlaSMa (Plasma and Semiconductor Materials) della sezione di Bari del CNR.
Della stessa famiglia è la tecnologia Ppd (Pulsed Plasma Deposition) sviluppata grazie ad una collaborazione tra l’Università di Catania ed imprese del Consorzio Etna Valley Advanced Technology Solutions.
A differenza degli attuali processi basati sull’uso del laser che operano a temperature intorno ai 400 °C o altre tecniche che comunque operano a temperature superiori a 250°C per il deposito di silicio o altri materiali in film sottile, le nuove tecnologie in stato di avanzato sviluppo utilizzano il plasma a temperature inferiori a 100°C per la produzione di celle fotovoltaiche a film sottile. I vantaggi sono notevoli:
* minor consumo energetico per la produzione delle celle
* possibilità di usare supporti flessibili ed economici come la plastica senza che questa fonda
* possibilità di depositare strati ultrasottili di materiali semiconduttori
* omogeneità strutturale del materiale depositato con vantaggi sulle efficienze delle celle prodotte
Altro vantaggio da sottolineare è la grande adattabilità delle nuove celle grazie alla flessibilità del supporto che può seguire l’andamento di superfici curvilinee.
All’Etna Valley Advanced Technology Solutions prevedono che la tecnologia sviluppata sarà disponibile per il mercato nel giro di uno o due anni.
Fonte: Pienosole.it
